一、高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)制取设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)系统水质标准:
我公司电子级超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)设备出水水质完全符合美国ASTM纯水(又称纯净水、去离子水)水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MOmega;.cm、15MOmega;.cm、10MOmega;.cm、2MOmega;.cm、0.5MOmega;.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)水质试行标准、美国半导体工业用纯水(又称纯净水、去离子水)指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
二、超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)设备，超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)处理设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)制取设备的要求:
新兴的光电材料生产、加工、清洗去离子水设备；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
三、超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)设备，超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)处理设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)制取设备，东莞超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)设备反渗透设备操作人员培训
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水(又称纯净水、去离子水) ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀(precipitation)、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水(又称纯净水、去离子水) ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水(又称纯净水、去离子水)清洗和用纯水(又称纯净水、去离子水)配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产 ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料 ☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)制取设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)设备，高纯水(含盐量在0.3mg/l以下-电导率小于0.2μs/cm的水)系统，超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)制取设备，超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)设备，超纯水(水中导电介质、胶体物质、有机物等几乎全部去除的水)系统
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